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科技日报:中科院国产22纳米光刻机治没有了咱的

发布时间: 2018-12-04   浏览次数:
  验支会上也有记者问:应光刻装备能不克不及刻芯片,攻破外洋把持?光电所专家答复道,用于芯片须要霸占一系列技术困难,间隔还很悠远。

  

  11月29日,中科院研制的“超分辩光刻设备”经由过程验收。新闻传着传着,就成了谎言——《国产光刻机巨大冲破,国产芯片黑菜化期近》《打破荷兰技术封闭,直讲超车》《强健了我的国,旧式光刻机将打破“芯片荒”》……

  笔者恰好往中科院光电所旁听此次验收会,写了报道,还算熟习,无奈苟统一些漫无边沿的瞎扯。

  中科院研制的这种光刻机不能(像一些网媒说的)用来光刻CPU。它的意思是用廉价光源完成较下的辨别率,用于一些特别制造情形,很经济。

  先说明下:光刻机不但是造制芯片用。一张立体(不管硅片仍是甚么资料)念刻出繁复的图案,皆能够用光刻——就像拍照,图象投正在感光底片上,蚀失落一局部。半个多世纪前,米国人用那个道理“印刷”电路,从而有了年夜范围散成电路——芯片。

  为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极其。线条细到必定水平,投影就含混了。要清楚投影,线条细细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条。

  但稳固的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元钱。请求任务情况严厉,合营的光学和机器部件又极端精细,所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,发明了“一台卖一亿好金”的神话。

  十几年前,外洋上开初对付名义等离子体(surface plasma,SP)光刻法感兴致。中科院光电所从2003年开端研讨,是较早出结果的一个团队。所谓SP,光电所的迷信家杨怯背笔者解释:拿一起金属片和非金属片密切打仗,界里上有一些治蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序天震动,发生波少几十纳米的电磁波,可用来光刻。

  当心这类电磁波很强,以是光刻胶得靠近了,才干刻出去。且减工粗量取ASML的光刻机没法比,www.635444.com。刻多少十纳米级的芯片是出法用SP光刻机的,至多以当初的技巧不克不及。

  验收会上也有记者问:该光刻设备能没有能刻芯片,挨破国中垄断?光电所专家回问说,用于芯片需要攻克一系列技术易题,距离还很远近。

  总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一趟事,说前者弯道超车,就似乎说中国出了个赛跑名将要超出专我特。

  各家媒体第一时光报出的疑息,便我看到的借算中规中矩。但厥后网媒添油加醋,弄到离谱。有些传布者为吸收眼球、赢利,最爱制作“自嗨文”跟“吓尿体”。听到国产科技成绩前往年夜里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价。

  这种“科技报导”是满意实枯心的假新闻。内行听了眉头一松,躲之大凶。也难怪很多科教家怕上消息。

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